Article

Article title RESEARCH OF MICROCHANNEL PLETES PARAMETERS BY ATOMIC FORCE MICROSCOPY
Authors O.A. Ageev, V.A. Smirnov, N.I. Serbu, D.G. Samkanashvili, A.K. Urtaev, Z.H. Ephiev
Section SECTION I. NANOELECTRONICS
Month, Year 04, 2011 @en
Index UDC 621.38-022.532
DOI
Abstract Results of microchannel internal surface of the microchannel plates (МCP) nanostructure by atomic force microscopy research are presented. It is established that the MCP microchannel internal surface has granular nanostructure with diameter of grains 59±10 nm and height 2,8±0,7 nm. Areas with the raised conductivity are revealed, the current of regions 10,6 nA. The profile of distribution and sputtering depth of chromic contacts in the MCP microchannels surface is investigated.

Download PDF

Keywords Microchannel plate; atomic force microscopy; surface morphology; spreading resistance; nanostructure.
References 1. Смирнов В.А., Сербу Н.И. Исследование наноструктуры и электрических параметров внутренней поверхности каналов микроканальных пластин методами АСМ // Труды международной научно-технической конференции и молодежной школы-семинара «Нанотехнологии – 2010». – Ч. 2. – 2010. – С. 97-99.
2. Paul E. West, Ph.D. Introduction to Atomic Force Microscopy // Pacific Nanotechnology. – 2007. – Р. 68-96.
3. Агеев О.А., Алябьева Н.И., Коноплев Б.Г., Поляков В.В., Смирнов В.А. Фотоактивация процессов формирования наноструктур методом локального анодного окисления пленки титана // Известия вузов. «Электроника». – Ч. 2. – 2010. – № 2 (82). – С. 23-31.
4. Kalinin S., Gruverman A. Electrical and electromechanical phenomena at the nanoscale // Springer Handbook of Nanotechnology. – 2007. – Р. 31-49.
5. Clarysse T., Vanhaeren D., Hoflijk I., Vandervorst W. Characterization of electrically active dopant profiles with the spreading resistance probe // Materials Science and Engineering R 47. – 2004. – Р. 123-206.
6. Официальный сайт ООО ВТЦ «Баспик» http://www.baspik.com.
7. Официальный сайт ЗАО «Нанотехнология-МДТ» http://www.ntmdt.ru.

Comments are closed.